NGK History

沿革

日本に電気が普及し始めた明治中期。高電圧に耐えるがいしは輸入品に頼っていました。「国家への奉仕として、がいしを国産化しなければならない」。そんな使命から、一片のアメリカ製がいしを手掛かりに高圧がいしの研究開発が始められました。これが発端となって日本ガイシが設立され、暮らしや産業の発展にともなう電力の需要増大に応え超高圧・超高強度がいしを次々と開発してきました。今では、世界一のがいしメーカーとして、世界の電力供給を支えています。磁器がいしの生産で培った技術力は次世代インフラを支える世界初の大容量蓄電池や環境課題に応える自動車排ガス浄化用部品、化学工業を進展させる産業用機器、エレクトロニクスの発展を支える精密機器などを生み出しエネルギー、エコロジー、エレクトロニクスの分野の発展に貢献しています。NGKグループは独自のセラミック技術を核にこれからも社会のニーズに応える先進のものづくりで、世界の発展を支えていきます。

製品史略年表
企業史略年表

製品史略年表

1919～
1930年

1919 日本碍子株式会社設立
1923 ブッシングの生産を開始
1929 100万V級の高電圧電気試験設備が完成
1930 「NGスパークプラグ」の製造販売を開始

※ 1934年に「NGKスパークプラグ」に改称
※ 1936年日本特殊陶業の設立に伴いスパークプラグの生産を移管

浸透性素地の研究を開始

100万V級高電圧電気試験設備

NGスパークプラグ

1931～
1940年

1931 耐酸ポンプを初納入
耐酸モルタルの生産を開始
1932 化学磁器の販売を開始
1934 散気板を初納入
1938 チタニウム磁器を開発

耐酸ポンプ

散気板

1941～
1950年

1943 短波ガイシの生産を開始

短波ガイシ

1951～
1960年

1953 中実SPガイシの生産を開始
1954 炭化ケイ素系の焼成窯用棚材・支柱を開発
1955 ベリリウムの研究を開始
1958 ベリリウム銅母合金の製造販売を開始

中実SPガイシ

ベリリウム銅母合金

1961～
1970年

1961 長幹ガイシを開発
ドライタイプ・コンデンサーブッシングを開発
1962 大型ガイ管（押出製法）を開発
急速ろ過池用集水装置（有孔ブロック）の技術をレオポルド社（米国）から導入
1963 ガイシ洗浄装置を初納入
1967 上水汚泥脱水装置を初納入
下水汚泥脱水装置を初納入
酸素分析計を初納入
1968 透光性アルミナ「ハイセラム」を開発
1970 産業廃棄物焼却炉を初納入

有孔ブロック

ガイシ洗浄装置

酸素分析計

透光性アルミナ「ハイセラム」

1971～
1980年

1972 100万V級試験変圧器用油浸紙コンデンサーブッシングを開発
グラスライニングの製造技術をディートリヒ社（フランス）から導入
1973 名神高速道路にセラミック防音壁を納入
1974 流動床式汚泥焼却装置を初納入
ローラーハースキルンを初納入
タイヤ用金型の販売を開始
1976 自動車排ガス浄化用触媒担体セラミックスの生産を開始
1977 「ハニセラム」で商標登録
1978 低レベル放射性廃棄物処理装置を初納入
ホーロー建材「NGKウォール」の販売を開始
100万V級（UHV）70・84トン懸垂ガイシを開発

流動床式汚泥焼却装置

タイヤ用金型

自動車排ガス浄化用触媒担体「ハニセラム」

低レベル放射性廃棄物処理装置

ホーロー建材「NGKウォール」

1981～
1990年

1981 磁気ヘッド用フェライトの新製法を開発
1982 自動車用酸素センサーの生産を開始
全面曝気装置を岡山県に初納入
1983 ビールろ過用セラミックフィルターを開発
1984 ナトリウム硫黄電池用ベータアルミナの研究を開始
1986 セラミック・ターボチャージャー・ローターを初納入
送電用避雷装置を開発
1987 バイオリアクターを初納入
アルミ繊維の吸音材を開発
ナトリウム硫黄電池の研究を開始
1989 ディーゼル・パティキュレート・フィルター（DPF）の生産を開始
1990 不燃性雑固体廃棄物処理用「高圧縮プレスシステム」を初納入

磁気ヘッド用フェライト

自動車用酸素センサー

セラミック・ターボチャージャー・ローター

バイオリアクター

ディーゼル・パティキュレート・フィルター（DPF）

1991～
2000年

1991 旋回流式汚泥溶融設備を初納入
1992 NAS電池の実用原型モデルによる系統連携運転を開始
1995 UHV用ガスブッシングを製品化
インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターを開発
1996 半導体製造装置用セラミックスの量産を開始
自動車排ガス用NOxセンサーを開発
高周波溶融固化システムを開発
1997 光ファイバージャイロ用光導波路デバイスの量産を開始
日本初のセラミック膜浄水システムを開発
1998 インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターの生産を開始
ガラス製ハードディスク基板の量産を開始
1999 プラズマディスプレーパネル（PDP）製造用乾燥炉・焼成炉を開発

NAS電池の実用原型モデル

UHV用ガスブッシング

インクジェットプリンター用
圧電マイクロアクチュエーター

半導体製造装置用セラミックス

ガラス製ハードディスク基板

2001～
2010年

2001 高出力・高性能青色レーザー用SHG素子を開発
圧電セラミックディスプレイを開発
2002 家庭用浄水器「C1（シー・ワン）」を発売
MFI型ゼオライト製ガス分離膜を開発
2003 NAS電池の量産を開始
2004 小児がん予後診断用DNAマイクロアレイを開発
2005 HDD用圧電マイクロアクチュエーターを開発
2006 AEP社（米国）でNAS電池が海外初の商用稼働を開始
2007 サブナノセラミック膜を開発
2008 車載用高精度NOxセンサーを開発
2009 平板円筒型（流路内蔵）セルを用いた固体酸化物形燃料電池（SOFC）を開発
雰囲気ローラーハースキルンを開発

圧電セラミックディスプレイ

家庭用浄水器「C1（シー･ワン）」

MFI型ゼオライト製ガス分離膜

NAS電池

小児がん予後診断用DNAマイクロアレイ

サブナノセラミック膜

車載用高精度NOxセンサー

2011～
2020年

2011 C1スリムタイプを発売
表面弾性波（SAW）フィルター用複合ウエハーを開発
2012 超高輝度LED（発光ダイオード）用の窒化ガリウム（GaN）ウエハーを開発
波長制御乾燥システムを開発
ガソリン・パティキュレート・フィルター（GPF）を実用化
2013 ジルコニウム銅ワイヤーを開発
2015 コンテナ型NAS電池を開発
超小型のHDD用圧電マイクロアクチュエーターを事業化
2018 紫外LED用マイクロレンズを事業化
レーザー光源用窒化ガリウム（GaN）ウエハーを事業化
2019 チップ型セラミックス二次電池「EnerCera」シリーズを事業化

表面弾性波（SAW）フィルター用複合ウエハー

窒化ガリウム（GaN）ウエハー

超小型HDD用圧電マイクロアクチュエータ―

紫外LED用マイクロレンズ

チップ型セラミックス二次電池「EnerCera」シリーズ

2021年～

2025 ハニセラム累計生産個数20億個を達成

企業史略年表

1919～
1930年

1919 日本陶器のガイシ部門が独立し、日本碍子が誕生
大倉和親社長（初代）就任

創立時役員（中央：大倉社長）

創立当時の本社工場

1931～
1940年

1936 スパークプラグ部門が日本特殊陶業として分離独立
1939 江副孫右衛門社長（第2代）就任

1941～
1950年

1942 愛知県半田市に知多工場が完成
1944 森村義行社長（第3代）就任
1946 日本碍子労働組合発足
1948 吉本熊夫社長（第4代）就任
1950 旭可鍛鉄（現旭テック）に資本参加

知多工場

1951～
1960年

1951 社内報『みづほ』創刊（1958年『みずほ』に改題）
1956 富士窯業（現NGKアドレック）に資本参加
インド駐在員事務所（ボンベイ）を開設
1957 熱田工場が完成
当社が技術協力したインド・マイソール州のガイシ工場が完成
1959 野淵三治社長（第5代）就任
事業部制を導入、化工機部・新商品部を設置

社内報『みづほ』創刊号

インド・マイソール州のガイシ工場

熱田工場

1961～
1970年

1961 明知碍子（現明知ガイシ）に資本参加
1962 愛知県小牧市に小牧工場が完成
ヨーロッパ駐在員事務所（西ドイツ・ハンブルク）を開設
米国駐在員事務所（ニューヨーク）を開設
1965 NGKアメリカ（現NGKロック）を設立
高松電気製作所（現エナジーサポート）に資本参加
1968 超高圧試験所（現電力技術研究所）が完成
知多工場にブッシング工場が完成
池袋琺瑯工業に資本参加
NGKカナダを設立
1969 福田克美社長（第6代）就任
1970 日本万国博覧会に日本陶器と共同で「風のモビール」を出展

小牧工場

超高圧試験所

1971～
1980年

1973 ロックインシュレーターズ（米国）を設立
1974 超高圧試験所内に碍子博物館が完成
1975 トーチューベリアロイ工業（現NGKメテックス）に資本参加
1976 ブランドマークを「NGK」に統一、コーポレートカラーを決定
多治見カントリークラブがオープン
事業本部制を導入（電力・機械装置・特品の3事業本部発足）
1977 竹見淳一社長（第7代）就任
NGKボドゥール（ベルギー）を設立
NGKヨーロッパ（ベルギー）を設立
1979 超高圧研究所にUHV用汚損ホールが完成

碍子博物館

NGKボドゥール

UHV用汚損ホール

1981～
1990年

1984 NGKエレクトロニクスを設立
1985 NGKセラミックスヨーロッパ（ベルギー）を設立
NGKヨーロッパ（ドイツ）を設立
1986 小原敏人社長（第8代）就任
社名表記を「日本ガイシ」に変更
企業理念、新コーポレートマークを制定
NGKメタルズ（米国）を設立
NGKノースアメリカを設立
1987 ウィカNGKインシュレーターズ（インドネシア）を設立
1988 NGKセラミックスUSAを設立
1989 長期経営計画「Kプラン21」策定
NGKキルンテックを設立
NGKケミテックを設立
1990 NGKオホーツクを設立

NGKセラミックスヨーロッパ

NGKメタルズ

1991～
2000年

1991 双信電機に資本参加
NGKフィルテックを設立
1993 NGKスタンガー（オーストラリア）を設立
1994 柴田昌治社長（第9代）就任
NGKプリンターセラミックスを設立
NGKロックポリマーインシュレーターズ（米国）を設立
1996 NGKモールドとNGKベアロンを合併してNGKファインモールドを設立
NGKセラミックスインドネシアを設立
NGK唐山電瓷（中国）を設立
1997 中期経営計画「EXCÉL－01」を策定
サイアムNGKテクノセラ（タイ）を設立
1998 NGKプリンターセラミックス山梨工場（現NGKセラミックデバイス山梨工場）が竣工
2000 NGKセラミックスサウスアフリカを設立

NGKスタンガー

NGKロックポリマーインシュレーターズ

サイアムNGKテクノセラ

NGKセラミックスサウスアフリカ

2001～
2010年

2001 NGK（蘇州）環保陶瓷（ACC、中国）を設立
NGK（蘇州）精細陶瓷器具（中国）を設立
2002 松下雋社長（第10代）就任
FMインダストリーズ（FMI、米国）の経営権を取得
NGKオートモーティブセラミックスUSAを設立
2003 旭テックの株式を米投資ファンドに譲渡
NGKセラミックスポーランド（ACP）を設立
ビルラNGKインシュレーターズ（インド）を設立
2005 取締役会を改革し、執行役員制度を導入
2006 NGK（蘇州）電瓷（NGK蘇州、中国）を設立
2007 名古屋市総合体育館のネーミングライツを取得
鳥羽総合研修センターが完成
NGK水環境システムズを設立
NGKオートモーティブセラミックスコリアを設立
社外取締役制度を導入
NGKインシュレーターズUKを設立
2008 NGKセラミックスメキシコを設立
水環境事業を分社化しメタウォーター設立
石川県能美市にハニセラム生産拠点の新設を決定
2009 ものづくり構造革新スタート
2010 ニューデリー事務所（インド）を開設

NGK（蘇州）環保陶瓷

NGK（蘇州）精細陶瓷器具

FMインダストリーズ

NGKセラミックスポーランド

ネーミングライツを取得した名古屋市総合体育館

NGKセラミックスメキシコ

石川工場

2011～
2020年

2011 加藤太郎社長（第11代）就任
NAS電池の火災事故が発生
NGKグループ企業行動指針を改定
2012 厚生労働省から子育てサポート企業として認定
FMIが米国メーカーから半導体製造装置関連事業を買収
ACPに大型ハニセラム新工場の建設を決定
2013 競争法ハンドブックを発行
2014 大島卓社長（第12代）就任
NGK蘇州の解散を決定
ACPでガソリン・パティキュレート・フィルター（GPF）の量産化を決定
2015 NGKエレクトロデバイスをグループ会社化
ACP第2工場の新設を決定
石川にNOxセンサー用素子工場新設を決定
NGKテクノロジーズインディアを設立
NGKセラミックスタイランドを設立
自動車用触媒担体の取り引きに関して反トラスト法違反などで米国司法省と司法取引に合意
2016 ACCでGPF生産を発表
2017 FMIが新工場を開設
25年ぶりに一般職人事制度を改定
65歳定年制を導入
岐阜県多治見市に半導体製造装置用セラミック製品の新工場の建設を決定
ロックインシュレーターズ（米国）の解散を決定
ACCの第2工場の建設を決定
2018 プロセステクノロジー事業本部を新設し4事業本部制へ
ガイシなど電力事業本部製品の受渡検査に関する不整合について発表
危険体感予知道場で体感教育を開始
2019 NGKグループ企業行動指針を改定
NGKグループ理念を発表
NGK唐山の解散を決定